名称作用风险活性致痘防晒御泥坊清爽平衡矿物黑面膜:水丁二醇﹑保湿剂溶剂抗菌剂1甘油保湿剂溶剂1-2甜菜碱 保湿剂抗静电黏度控制1甘油聚甲基丙烯酸酯成膜剂1丙二醇保湿剂溶剂抗菌剂3PVM/MA 共聚物增稠剂1苯氧乙醇 ...
数据来源:科妆网
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